Low-E玻璃又稱(chēng)低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎(chǔ)的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對(duì)可見(jiàn)光高透過(guò)及對(duì)中遠(yuǎn)紅外線(xiàn)高反射的特性，具有良好的節(jié)能效果和光學(xué)性能。真空磁控濺射法(PVD)也稱(chēng)離線(xiàn)法，可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜膜系Low-E玻璃的大規(guī)模量產(chǎn)，成為近年來(lái)Low-E玻璃的主流生產(chǎn)工藝。
相比傳統(tǒng)的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數(shù)多也更薄，特別是近年來(lái)雙銀/三銀Low-E玻璃的推廣，有的產(chǎn)品需要沉積多達(dá)20多層不同材料的薄膜，這就對(duì)每層薄膜的質(zhì)量和均勻性提出了非�？量痰囊蟆Ｈ绻荒芎芎玫目刂茊螌颖∧さ馁|(zhì)量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學(xué)不均勻性就會(huì)非常明顯。因此對(duì)現(xiàn)有的PVD鍍膜工藝來(lái)說(shuō)，提高鍍膜的質(zhì)量和均勻性是一個(gè)非常關(guān)鍵的課題。
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作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布?xì)饩鶆蛐苑浅Ｖ匾�。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：
1)布?xì)夤苈贩譃橹鞴芎洼o管，主管由3個(gè)質(zhì)量流量計(jì)分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據(jù)陰較寬度分為3～7段，每段由一個(gè)質(zhì)量流量計(jì)單獨(dú)控制工藝氣體流量
